基本假设是，日本容量对于不同的GB方向，存在多个稳定和亚稳态。
【成果简介】对此，研发用电德州大学达拉斯分校KJ Cho课题组提出了通过引入第三种元素到二元金属氧化物的方法来改善p型氧化物禁带宽度小相稳定性弱的缺点。在这个工作中他们以SnO为例，出利探究了通过引入第三种元素X形成Sn-O-X三元化合物来增大二元化合物SnO禁带宽度和Sn2+的相稳定性。
这个方法还能推广到其他p型金属氧化物中并且引出了一个更广的概念：网实M-O-X，网实其中M是Sn2+，Ni2+，Cu1+，Pd2+等这些处于相对还原态的金属，是产生低空穴有效质量高空穴迁移率的原因，而X则是第三种元素用来调节禁带宽度和相稳定性。现高这个概念应用到其他p型金属氧化物中会设计出更高性能的p型金属氧化物半导体。速大数据进一步研究并设计具有高迁移率高相稳定性的p型氧化物对于发展高性能的金属氧化物具有十分重要的意义。
【图文导读】图一、通信筛选高迁移率高相稳定性p型氧化物半导体流程Figure1 Illustrationofmaterialsscreeningprocedureforhigh-mobilityandthermodynamicallystablep-typeoxides.表一、通信基于Sn2+的高迁移率高相稳定性p型氧化物半导体图二、p型氧化物半导体化学势相图Figure2PhasestabilitydiagramsofthemostpromisingSn-O-X compoundscalculatedfromfirstprinciples intermsofSn-X chemicalpotentialmaps.Thepanelsreferto(a)K-Sn-O,(b)Rb-Sn-O,(c)P-Sn-O,(d)Ti-Sn-O,(e)Ta-Sn-O,(f)Cs-Sn-O,(g)Na-Sn-O,(h)Ge-Sn-O,and(i)B-Sn-O.ThegreenregionofSnandX chemicalpotentialsindicateswheretheidentifiedp-typeSn-O-X compoundphaseisthermodynamicallystable.Theinsertstosubfigures(g)-(i)showthezoomed-instabilityareasofSn2+-O-X ternarycompounds.currentphasediagramcalculations.图三、p型氧化物半导体其形成能与SnO含量的关系Figure3Calculatedstabilizationenergy δE ofaSn2+-O-X compoundversustheSnOmolefractioninthatSn2+-O-X compound.ForagivenphaseP,itsδE iscalculatedas theenergydistancefromthephaseP totheconvexhullsurfacecalculatedwithoutP. ForthesameX,Sn2+-O-X withahigherSnOcontentgenerallypossessesamorepositiveδEandlowerphasestability.【结论展望】通过引入第三种元素到二元金属氧化物可以来改善p型氧化物禁带宽度小相稳定性弱的缺点。一个明显的缺点是，技术由于在金属氧化物中空穴迁移率通常远远低于电子迁移率，这些金属氧化物只能n型导电
其中湖南卫视作为跨年晚会的鼻祖，日本容量无论是人气还是期待值依然是众多地方卫视中最高的。
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